近日，中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所在衍射光學(xué)元件的低成本方面取得進展，相關(guān)論文被《光學(xué)快報》（Optics Letters） 接受，并提前在網(wǎng)上發(fā)表。該雜志由美國光學(xué)學(xué)會主辦，以快速報道光學(xué)領(lǐng)域的研究成就而著稱。
博士后王彪與合作導(dǎo)師崔平、宋偉杰研究員通過集成有序納米孔材料合成和納米材料表面微納加工兩種先進技術(shù)，提出了一種在有序的多孔陽極氧化鋁基片上獲得所需圖案的低成本方法。他們在正常的光刻加工步驟完成后，利用化學(xué)刻蝕方法代替通常采用的干法刻蝕工藝，從而快速地將所需的微觀圖案轉(zhuǎn)移到多孔陽極氧化鋁片上。實驗表明，通過上述方法可以在多孔氧化鋁片上刻制出高精度的圖形結(jié)構(gòu)，并且加工獲取的圖形結(jié)構(gòu)深度很容易超過10μm以上。該方法將衍射光學(xué)元件如透射光柵的加工由傳統(tǒng)的致密光學(xué)材料擴展到有序納米孔材料上，有望適用于高性能衍射光學(xué)元件。例如，當(dāng)多孔氧化鋁上刻制的圖形是光柵條紋時，所獲得的單色激光衍射結(jié)果與理論計算值吻合得很好。
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